實事求是的說，二十年內(nèi)都不能！最尖端光刻機(jī)全球只荷蘭阿斯麥公司獨(dú)此一家！這家由菲利普公司獨(dú)立出來的高科技公司由十幾家知名公司共同投資，西門子、佳能、英特爾、三星、臺積電等等都是其股東，極紫外激光組件來自美國，機(jī)械行走部件來自德國西門子，造影劑來自日本佳能……，而還有一個重要條件：封裝工藝！有了光刻機(jī)只代表你擁有了達(dá)到加工精度的工具，而能不能加工出合格的產(chǎn)品，以及良品率的高低，同樣不是一朝一夕之功，我國至少還落后15-20年！正視差距才能提高，成天意淫、一葉障目只會越拉越遠(yuǎn)！
華為斷供
自從9月15日，美國的芯片禁令開始后，英特爾、AMD、韓國的三星、LG、SK海力士等，以及日本的鎧俠、索尼、東芝等芯片巨頭，開始陸續(xù)宣布對華為斷供。
雖然，英特爾和AMD后來都獲得，重新向中國提供電腦芯片的準(zhǔn)許證。可是，手機(jī)芯片一直沒得到恢復(fù)，華為的手機(jī)業(yè)務(wù)可以說是直接被打趴了。
7nm工藝麒麟芯片無法生產(chǎn)，華為Mate 40系列手機(jī)立馬成麒麟絕唱。
10月14日，ASML的首席財務(wù)官Roger Dassen就向中國出口光刻機(jī)的問題發(fā)表了口頭聲明。他說：“與中芯國際等中國客戶的業(yè)務(wù)往來，表示一些情況下，出口DUV（深紫外）光刻機(jī)，無需美國許可。”
這是肯定的，但是目前為止，中國的光刻機(jī)和芯片離世界先進(jìn)水平還有不少差距，不過中國正在加速追趕。
一臺光刻機(jī)由上萬個部件組成，有人形容光刻機(jī)是一種集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機(jī)械、自動化、軟件、圖像識別領(lǐng)域頂尖技術(shù)的產(chǎn)物。
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。
按照用途可以分為好幾種：
有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；
有用于封裝的光刻機(jī)；
還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。
用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板。
光刻機(jī)被稱為“人類最精密復(fù)雜的機(jī)器”，該領(lǐng)域的龍頭老大是荷蘭ASML，并已經(jīng)壟斷了高端光刻機(jī)市場。
荷蘭ASML公司EUV光刻機(jī)的價格約為1.48億歐元，折合人民幣大概11.65億元左右。而且ASML的EUV光刻機(jī)也產(chǎn)量很低，供不應(yīng)求，必然會優(yōu)先考慮自己的大客戶，如臺積電等。
數(shù)據(jù)顯示，2019年全球半導(dǎo)體芯片市場銷售額達(dá)4376億美元，其中中國市場銷售額達(dá)1942億美元，約占全球總銷售額的44%。
作為全球第一大市場，中國企業(yè)只要能拿下一半的市場份額，就足以躋身世界芯片制造大國的行列，因為目前世界芯片第一大國美國，每年的銷售額在1000億美元左右。
ASML第三季度財報顯示，ASML當(dāng)季總共銷售60部光刻系統(tǒng)，凈銷售額為40億歐元（約320億人民幣），凈收入11億歐元，毛利率達(dá)到了47.5%，營收攀升至39.58億歐元，其中，中國貢獻(xiàn)了21%的份額。
芯片和內(nèi)存條一樣，都是由集成電路組成的半導(dǎo)體，而它們的主要原材料就是沙子里面的硅。
那么從沙子里面的硅到一枚芯片需要經(jīng)歷原材料提純，高溫融化，切片成為半導(dǎo)體原料，之后就是刻畫晶體管電路，放進(jìn)高溫爐里面烤形成納米級的二氧化硅膜，完事之后還要在薄膜上鋪一層感光層，為接下來最重要的光蝕雕刻做準(zhǔn)備。
這前面的工作其實都挺簡單的，光蝕雕刻才是難的，光刻機(jī)要在芯片上刻出20層的信息層，相當(dāng)于在指甲片的晶圓面積上放下整個紐約市的地圖信息，之后才是封裝、切割、測試等后續(xù)工作。
光刻機(jī)有一個外號——人類歷史上最精密最復(fù)雜的儀器。
簡單的說，一輛汽車的零部件差不多有5000件，而一臺頂級的euv光刻機(jī)零部件能達(dá)到10萬件，涉及到上游5000多個供應(yīng)商，集合了力學(xué)，光學(xué)等頂尖物理技術(shù)，所以說一臺光刻機(jī)的復(fù)雜程度難以想象。
現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)制造商只有荷蘭一家獨(dú)大企業(yè)阿斯麥，其一臺euv光刻機(jī)就值1.48億美元，這代表你有錢還買不到，真正可以說的上是得光刻機(jī)者得芯片產(chǎn)業(yè)。
2005年的時候，阿斯麥、日本佳能和尼康都在研發(fā)，結(jié)果后來佳能和尼康熬不住了，沒成果又沒市場。
阿斯麥其實也熬不住想放棄，但客戶不答應(yīng)，聯(lián)合又給他50億歐元的經(jīng)費(fèi)支撐，才順利生產(chǎn)了出來。
目前，我國大陸還沒有一臺這種頂級euv光刻機(jī)。
現(xiàn)有我國大陸光刻精度最高的只能做到14nm，還是買的光刻機(jī)。
不過臺積電現(xiàn)在的制造工藝能達(dá)到5nm跟7nm。
答案是：當(dāng)然
上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機(jī)中，性能最好的SSA600/20工藝只能達(dá)到90nm，相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準(zhǔn)。
而國外的先進(jìn)水平已經(jīng)達(dá)到了7納米，正因如此，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。
不過，國內(nèi)在芯片代工技術(shù)上，已經(jīng)開始有所突破。
10月12日，中芯國際官宣完成了FinFET N+1先進(jìn)工藝的芯片流片和測試，所有環(huán)節(jié)全部是自主國產(chǎn)。
中芯國際聯(lián)合CEO梁孟松曾在財報電話會議上披露，中芯國際N+1制程工藝與14nm制程工藝相比，性能提升20%、功耗降低57%、邏輯面積縮小63%、SoC面積減少55%。
而且N+1工藝在功率和穩(wěn)定性方面和7nm工藝非常相似，不需要EUV光刻機(jī)，但在性能方面提升還不夠，所以N+1工藝是面向低功耗應(yīng)用領(lǐng)域的。
雖然現(xiàn)在這款芯片還在流片測試階段，沒進(jìn)行量產(chǎn)。
可是從長期來看，這也算是中國芯發(fā)展進(jìn)程里的一大進(jìn)步，為國產(chǎn)半導(dǎo)體生態(tài)鏈再立新功。
在追趕國際先進(jìn)水平方面，中芯國際仍有很長很長的路要走。
中國被稱為世界工廠已經(jīng)有20年時間，而中國最大的芯片制造企業(yè)中芯國際成立至今剛好也是20年。
《中國制造2025》也將EUVL列為了集成電路制造領(lǐng)域的發(fā)展重點對象，并計劃在2030年實現(xiàn)EUV光刻機(jī)的國產(chǎn)化。
隨著國家對芯片領(lǐng)域大幅度投資和持續(xù)投入，相信中國的光刻機(jī)發(fā)展也將最終進(jìn)入大規(guī)模自主生產(chǎn)的階段。
對于中國來說，一切只是時間問題。